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光刻工艺

光刻工艺-3级-海报.jpg

光刻工艺是微图形转移工艺，随着半导体加工的线宽越来越小，光刻工艺对极小污染物的控制苛刻，不光对颗粒严格控制，严控过滤产品的金属离子析出，这对滤芯生产制造提出了特别高的要求。科百特过滤给半导体客户提供半导体级别的全氟滤芯，低的金属析出溶出确保了产品的洁净。


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