五一国际劳动节前夕，科百特光刻领域专家团队提交的又一重要研究成果——Metal purifier for TMAH developer solution，在SPIE Digital Library上正式收录发表！SPIE作为全球领先的光学和光电子学领域的国际学术组织之一，一直致力于推动高科技光学、光电子学和影像处理领域的创新发展。此次文章被SPIE收录发表，代表着科百特在光刻领域技术研究取得的成果和持续创新。科百特光刻领域专家团队已经在SPIE Digital Library上多次发表技术文章，持续地为全球光刻领域的技术创新和发展提供了科百特的解决方案。

此次收录的文章主要介绍了科百特采用多种纯化方案去除TMAH水溶液中的金属离子，最终，通过功能基团和膜结构的优化，我们很好的克服了传统方法在TMAH中去除金属较差的难题。

在半导体芯片制作工艺中，显影作为光刻胶图形化中的一个重要步骤，如果显影液中存在一些微污染物，那么产生图案缺陷的风险将会大大提高。当这些微污染物在显影液中以不溶解的颗粒形式存在时，那么我们可以在光刻工艺后使用图案缺陷检查工具很容易的检测到它，然后通过Rework流程重做光刻流程；当这些微污染物在显影液中以可溶解的形式存在时，例如金属离子，这时使用缺陷检测工具将很难检测到它。光刻工艺的后续步骤主要是干法刻蚀工艺，其中光刻胶图案用作掩模，如果光刻胶图案中存在金属杂质，则金属杂质在干法刻蚀过程中从光刻胶膜撞击到基膜上，这些金属污染物可能会导致各种半导体器件故障，金属杂质的存在还会导致以其为中心的附近光刻胶的刻蚀速率产生变化，当我们在基材上的这个微小缺陷上沉积CVD薄膜时，这个缺陷会异常生长。我们称这种类型的缺陷为Cone defect。Cone defects是对器件良率产生负面影响的主要问题之一。因此，减少来自TMAH显影液的金属污染非常重要。

Cobetter创新的TMAH purifier解决方案：

螯合改性金属离子纯化器：此类纯化器使用接枝技术将鳌合基团嫁接在滤材上，使得滤材可以对溶液中的金属杂质起到抓取的作用。

金属离子去除效果：

我们准备2L 100ppt金属离子加标的2.38%TMAH于容器中，通过气压使得容器中的溶液以100mL/min的流量经过纯化器，并在下游接取滤液，使用安捷伦7900 ICP-MS对滤液中的金属离子浓度进行分析。结果表明新开发的纯化器可以有效地降低2.38%TMAH中的金属离子杂质浓度，即使单次过滤也可使部分金属离子浓度从0.1ppb降低到个位数ppt的水平。

TMAH显影是光刻工艺中关键工艺之一，减少TMAH溶液以及光刻化学品中的金属离子微污染非常重要。经过逐步的研究，科百特开发了新型的螯合纯化器，这类纯化器可以有效去除TMAH中的金属，特别是Mg、Fe、Ni、Mn、Cr等金属。

关键词：超滤膜包 深层过滤 切向流