科百特20周年感恩回馈客户的电子工业技术交流活动持续进行中，我们携着各个细分领域的技术专家，深入客户现场，分享科百特在过滤、分离纯化以及流体领域的解决方案，现场与客户互动交流，得到了客户积极的反响，目前客户现场交流活动持续进行中。

在半导体芯片制造过程中，光刻工艺是至关重要的制程之一。该工艺需要多次的光刻步骤来完成图像转移，因此，光刻工艺的良率对于芯片的最终成品率具有重要影响。光刻工艺中，曝光设备的洁净度管控、光刻胶及配套试剂的颗粒、金属离子的严格管控等都是关键因素。科百特通过专业的光刻胶过滤纯化技术，为芯片制造提高良率提供解决方案。

科百特CTO山田善章先生拥有多年的光刻领域工作经验，对先进光刻胶的制程和应用要求以及实际应用中会遇到问题都非常专业。4月份，山田善章先生从日本分公司来到中国，拜访各个城市的芯片制造企业，针对客户在光刻过程中的需求和挑战，专门分享了一系列解决方案，帮助客户解决问题。

本次科百特的技术交流分享活动获得了高阶用户的高度评价和积极反馈，原本1小时的交流延长到了3小时。随着半导体技术的不断发展，对于颗粒、金属离子和有机物的洁净度要求越来越高，科百特能够为客户提供完整的光刻过滤纯化解决方案，并分享在去除颗粒和金属离子污染方面的宝贵经验。科百特一直秉承以客户为中心的理念，通过打造极致的产品和持续创新的方案，帮助客户优化制程工艺，共同创造美好未来。

关于 Cobetter 日本子公司

科百特成立之初就开始在半导体行业全球化布局。自2004年起，公司与海外的面板先进企业合作，并在2014年开始与全球先进的半导体客户开展合作。科百特致力于开发极致的产品来满足最先进的制程技术和最严苛的要求来提升产品核心竞争力。随着业务的发展，科百特日本子公司于2019年在日本大阪成立，目前已经与500多家日本客户展开合作，日本客户对技术产品的严格要求促进了科百特的快速产品迭代。

科百特日本分公司现已经开展与日本半导体产业链各细分领域的全方位合作。

• 光刻胶领域：
  与日本尖端光刻胶制造企业共同验证更高性能的Sub 1nm产品。
• 湿化学领域：
  与日本先进的化学品制造企业共同验证超净PFA滤芯产品。
• OEM领域：
  与Single wafer tool制造商共同开发purifier BOX系列产品。
• IDM领域：
  与8家日本的半导体芯片制造商开展多点位的合作。
• 工程领域：
  与日系水处理公司开展脱气膜业务合作。

同时，科百特在日本建立了技术分析验证实验室，并计划未来在日本建设海外工厂，通过全球研发合作、协同创新、国际人才和经验，科百特将提升公司整体竞争力，为更多的客户提供优质服务。