随着半导体技术节点不断缩小至7nm及以下，对光刻化学品的杂质容忍度要求日益严苛。在这方面，光刻POU过滤器的应用被证明可以有效降低光刻化学品中微量杂质的含量，从而提高工艺制程的良率。科百特Photogile™系列POU过滤器已广泛应用于终端的Solvent和PR过滤，并且取得了优秀的使用结果反馈。

      在Photogile™系列POU过滤器的开发过程中，滤膜孔径的不断缩小可以有效提升滤芯对微小杂质的去除能力，与此同时，产品本身的杂质溶出水平也被提出越来越高的要求，因此，POU过滤器的开发是滤膜研发能力、滤芯组装能力、滤芯清洗技术的共同提升过程。

      Wet Particle是评价POU过滤器的重要指标之一，它不仅能反映POU过滤器的杂质拦截能力，还能体现出POU过滤器本身的洁净度。如果POU过滤器本身不够洁净，将无法达到较低的Wet Particle值。

      近日，科百特Photogile™ UPE 1nm POU过滤器在RRC Solvent上的测试取得进一步突破性进展。在满足19nm Wet Particle小于10ea的要求下，新的Photogile™ UPE 1nm POU过滤器所需冲洗的化学品量减少了78%。

    同时，在19nm Wet Particle数据稳定后，采用更高灵敏度的15nm Wet Particle测试，结果也显示出优秀的性能，其值仍小于10ea。

    以上验证结果显示了科百特Photogile™ UPE 1nm POU过滤器在处理微小杂质方面的卓越能力，有助于提高工艺制程的良率，为工艺制程提供了更高的可靠性和稳定性。