ChatGPT的横空出世，让人关注到了其成功的关键因素之一——算力。芯片尺寸越小，数字电路越小，速度越快，从而单位时间能处理的信息量更多，则算力更强。微电子元器件尺寸逐渐缩小，工艺制程的要求越来越高，而制程中的工艺气体的洁净度对产品的良率、管路设备的安全等产生直接的影响。因此，对这些工艺气体的纯化至关重要。

工艺气体的类型很多，按照使用量划分，有大宗气体和特殊气体，大宗气体如压缩空气(CDA)，氮气(N2)，氧气(O2)，氢气(H2)，氩气(Ar)，氦气(He)等，特殊气体如硅烷(SiH4)，锗烷(GeH4)，三氟化氮(NF3)，全氟丙烷(C3F8)等；按照纯度划分，有普通气体(4N~6N)和超高纯气体(7N~12N)。

工艺气体中的杂质主要有六大类：水，杂质气体(O2，N2，惰性气体等)，金属(Fe，Ni，Mo等)，有机物(CH4，NMHC等)，酸碱(SO2，HCL，NH3等)，RC(HMDSO，TMS等)。

Fab厂为了提高制程良率，保证制程中工艺气体的纯度，在工艺气体使用前加装POU纯化器。POU纯化器主要由壳体、吸附滤料、滤芯、进出口接头等组成，其中接头类型有VCR、SW、NPT等，它广泛应用于Scanner，PVD/CVD，Etch，Implant等点位，特别在薄膜沉积环节，工艺气体作为薄膜原材料之一，且沉积薄膜种类多，使用的特气种类多；同时，薄膜每层要求不同，使用的辅助工艺气体也不同。因此，工艺气体的纯度直接影响了薄膜的性能。此外，光刻过程中，也需要使用高纯度的CDA或N2等工艺气体作为吹扫气，以防止lens的污染。

工艺气体纯化的基本原理为吸附（物理或化学）和过滤，气态分子污染物主要通过物理和化学吸附的方式来去除。在这个过程中，根据各制程气体的要求，选择性使用不同吸附剂，如活性炭、改性树脂、分子筛等，经过吸附剂处理的工艺气体，再由末端滤芯等进行纳米级颗粒物的过滤。如下图所示，纯化器将低等级5N氮气纯化为9N高纯氮气。

科百特纯化器具有设计紧凑、纯化效率高、性能稳定、结构可靠等特点。采用多级滤芯+多重纯化的设计，选择高洁净的吸附基体材料，依托特殊的改性技术和后处理工艺，可得到性能优异的核心吸附剂，从而实现对气态分子污染物的深度纯化。

此外，壳体采用优质的SUS316L，其颗粒过滤元件可选择PTFE、金属纤维、粉末烧结等多款材料，具有高度的可靠性。

其中，对气态分子污染物的效率可达99.9%，对颗粒物的去除效率可达99.9999999%@3nm。科百特纯化器无论是在高浓度的实验室环境，还是低浓度的现场环境都能保持良好的稳定性，可以保证在长时间运行中始终保持高纯度的工艺气体输出。

国内头部集成电路制造企业在ASML KrF Scanner工艺气体输入中采用了科百特GasPuriadv系列纯化器，并已运行1年之久，依旧保持可靠稳定的纯化效果，并优于baseline。以下是运行一段时间后的现场检测结果，其中，出口颗粒物≤1颗 @ ≥0.3 µm。

关键词：超滤膜包 深层过滤 除菌过滤