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科百特携“2nm HAPES 过滤技术”亮相Semicon Japan 2017
  • 科百特cobetter
  • 2017-12-14
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2017年12月13日-15日,科百特过滤携最新最尖端的科技成果——2nmHAPES滤芯和其他高质量、高性价比过滤解决方案亮相 2017 Semicon  Japan ,除了展示最新最尖端的科技成果--2nm HAPES过滤芯,大家还可以看到各种不同的高质量、高性价比过滤解决方案,并有资深半导体制程过滤专家为您讲解制程中可能碰到的污染问题,为不同污染问题提供不同过滤解决方案,期望连结全球半导体产业链,齐力推动全球电子产业未来进展,欢迎广大专家和客户莅临展位指导。

我们的展位号: 3203 

展馆地址:      東京都江東区有明3-11-1 東京ビックサイト             


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Cobetter此次展出的HAPES 2nm的过滤方案,正是针对半导体客户量身定做的过滤解决方案。该产品是Cobetter人根据最新14nm半导体制程要求而研发的最新过滤技术,可以为半导体制程、半导体上下游厂家,有效提升制程清洁的效率和效果,从而进一步为半导体客户带来最直接的经济效益,帮助其有效提升竞争力。


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Cobetter人在半导体领域过滤界最光荣的使命是:通过我们不断的努力,研发创新性的解决方案和产品,为广大半导体客户解决制程中的问题,并为其提升良率。


半导体行业客户朋友们,让我们携手共进,相约2018.1.31-2.2 Semicon  Korea, 韩国再见


具体产品详询,科百特微电子事业部,

电话:086-571-87704301  邮箱:sales@cobetterfilter.com




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